| 公开(公告)号 | CN1895258A |
| 公开(公告)日 | 2007.01.17 |
| 申请(专利)号 | CN200610052155.5 |
| 申请日期 | 2006.06.27 |
| 专利名称 | 一种二氟尼柳缓释剂及其制备方法 |
| 主分类号 | A61K31/603(2006.01)I |
| 分类号 | A61K31/603(2006.01)I;A61K33/30(2006.01)I;A61K33/34(2006.01)I;A61K33/06(2006.01)I;A61P29/00(2006.01)I |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | |
| 申请(专利权)人 | 浙江工业大学 |
| 发明(设计)人 | 倪哲明;李 丹;王力耕 |
| 地址 | 310014浙江省杭州市下城区朝晖六区 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | |
| 进入国家日期 | |
| 专利代理机构 | 杭州天正专利事务所有限公司 |
| 代理人 | 黄美娟;袁木棋 |
| 国省代码 | 浙江;33 |
| 主权项 | 一种二氟尼柳缓释剂，其特征在于所述的缓释剂是以阴离子层状材料水滑石为主体，二氟尼柳为插层客体的插层水滑石晶体结构，化学组成为： (M2+)1-x(M3+)x(OH)2(Dif)a(Bn-)b·m H2O 其中M2+是Mg2+、Zn2+、Cu2+、Ni2+、Co2+、Mn2+中的一种，M3+是Al3+、Fe3+、Cr3+中的一种，Dif代表二氟尼柳阴离子，Bn-是电荷为n的无机阴离子，a＝0.1～1，x＝M3+/(M2++M3+)，0＜x＜1，x∶a＝1～3∶1，b＝0～1且满足x＝a+nb，m和n为正数。 |
| 摘要 | 本发明涉及一种非甾体抗炎药的缓释剂及其制备方法，特别涉及一种二氟尼柳缓释剂及其制备方法，所述的二氟尼柳缓释剂是以阴离子层状材料水滑石为主体，二氟尼柳为插层客体的插层水滑石晶体结构，化学组成如化学式所示，其中M2+是Mg2+、Zn2+、Cu2+、Ni2+、Co2+、Mn2+中的一种，M3+是Al3+、Fe3+、Cr3+中的一种，Dif代表二氟尼柳阴离子，Bn-是电荷为n的无机阴离子，a＝0.1～1，x＝M3+/(M2++M3+)，0＜x＜1，x∶a＝1～3∶1，b＝0～1且满足x＝a+nb，m和n为正数。本发明所提供的缓释剂，不仅提高了药物抗炎、镇痛作用，还减少药物的副反应，具有产业上的应用价值。 (M2+)1-x(M3+)x(OH)2(Dif)a(Bn-)b·m H2O |
| 国际公布 |
