| 公开(公告)号 | CN1849303A |
| 公开(公告)日 | 2006.10.18 |
| 申请(专利)号 | CN200480026235.2 |
| 申请日期 | 2004.07.13 |
| 专利名称 | 新型杂芳基衍生物 |
| 主分类号 | C07D207/333(2006.01)I |
| 分类号 | C07D207/333(2006.01)I;A61K31/40(2006.01)I;A61K31/4164(2006.01)I;A61K31/4184(2006.01)I;A61P3/10(2006.01)I;A61P43/00(2006.01)I;C07D233/64(2006.01)I;C07D235/12(2006.01)I |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2003.7.15 JP 274684/2003 |
| 申请(专利权)人 | 大日本住友制药株式会社 |
| 发明(设计)人 | 渡边健一;丸田克纪;后田贯太郎;永田龙 |
| 地址 | 日本大阪府大阪市 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2004-07-13 PCT/JP2004/010282 |
| 进入国家日期 | 2006.03.13 |
| 专利代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 邹雪梅 |
| 国省代码 | 日本;JP |
| 主权项 | 式(1)所示的杂芳基衍生物、其前药或其药学上可接受的盐： 式中，环Z表示可被取代的杂芳基， R1表示羧基、烷氧基羰基、可被取代的氨基甲酰基、可被取代的环状氨基羰基、可被取代的烷基磺酰基氨基甲酰基、可被取代的芳基磺酰基氨基甲酰基或者四唑基， W1和W2表示可被取代的低级亚烷基， Ar1表示可被取代的亚芳基或可被取代的亚杂芳基， W3表示单键、低级亚烷基、低级亚烯基或者-Y1-W5，式中，Y1表示氧原子、硫原子、-S(O)-或-S(O)2-，W5表示低级亚烷基或低级亚烯基，W4表示单键、-NR10-、-NR10-W6(式中，R10表示氢原子或可被取代的低级烷基，W6表示低级亚烷基)、低级亚烷基或低级亚烯基，Ar2表示可被取代的芳基或可被取代的杂芳基。 |
| 摘要 | 式(1)所示的杂芳基衍生物、其前药或其药学上可接受的盐：式中，环Z表示可被取代的杂芳基，R1表示羧基或烷氧基羰基等，W1和W2表示可被取代的低级亚烷基，Ar1表示可被取代的亚芳基或可被取代的亚杂芳基，W3表示单键、低级亚烷基或低级亚烯基等，W4表示单键或-NR10-等，Ar2表示可被取代的芳基或可被取代的杂芳基。 |
| 国际公布 | 2005-02-10 WO2005/012245 日 |
