| 公开(公告)号 | CN1622943A |
| 公开(公告)日 | 2005.06.01 |
| 申请(专利)号 | CN02828462.3 |
| 申请日期 | 2002.10.11 |
| 专利名称 | 含杂环鎓盐 |
| 主分类号 | C07D311/16 |
| 分类号 | C07D311/16;C07D311/86;C08G59/00;G03F7/004 |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2002.3.4 JP 56697/2002 |
| 申请(专利权)人 | 和光纯药工业株式会社 |
| 发明(设计)人 | 石原正巳;浦野洋治;高桥昌弘 |
| 地址 | 日本大阪府大阪市 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | PCT/JP2002/010605 2002.10.11 |
| 进入国家日期 | 2004.09.03 |
| 专利代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 |
| 代理人 | 高龙鑫;王颖 |
| 国省代码 | 日本;JP |
| 主权项 | 一种通式[1]或[35]表示的含杂环鎓盐，[式中，R表示通式[2]表示的基团或通式[3]表示的基团，(式中，R3及R4分别独立且表示卤原子、可具有卤原子或芳基作为取代基的烷基、或者可具有卤原子或低级烷基作为取代基的芳基，X2表示氧原子或硫原子，i表示0～4的整数，j表示0～3的整数)；(式中，R5及R6分别独立并表示卤原子、可具有卤原子或芳基作为取代基的烷基、或者可具有卤原子或低级烷基作为取代基的芳基，X3及X4分别独立且表示氧原子或硫原子，p表示0～2的整数，q表示0～3的整数)；R1及R2分别独立且表示卤原子、可具有卤原子或芳基作为取代基的烷基、或者可具有卤原子或低级烷基作为取代基的芳基，m及n分别独立且表示0～5的整数；A表示卤原子、或者来自无机强酸、有机酸或通式[4]表示的化合物的阴离子，HM1(R7)4[4](式中，M1表示硼原子或镓原子，R7表示可具有选自卤代低级烷基、卤原子、硝基及氰基的取代基的芳基)]；[式中，R26及R27分别独立且表示可具有卤原子或低级烷基作为取代基的芳基、上述通式[2]表示的基团或通式[3]表示的基团，A3表示卤原子、或者来自无机强酸、有机酸或通式[4]表示的化合物的阴离子，但是，R26及R27中的至少一种是上述通式[2]或[3]表示的基团，另外，当R26及R27的任意一种中仅有一种是通式[2]或[3]表示的基团时，A3表示来自通式[36]表示的无机强酸、有机酸或通式[4]表示的化合物的阴离子，HM3F6[36](式中，M3表示磷原子、砷原子或锑原子)]。 |
| 摘要 | 本发明涉及适用于阳离子性光聚合引发剂、化学放大型抗蚀剂用酸发生剂的含杂环鎓盐，提供一种用通式[1](式中，R表示用通式[2]或通式[3]表示的基团)表示的含杂环的锍盐：如右式(1)、(2)或用通式[35]表示的含杂环的鎓盐，如式[35](式中，R26及R27的至少一种是用上述通式[2]或[3]表示的基团)。 |
| 国际公布 | WO2003/074509 日 2003.9.12 |
