| 公开(公告)号 | CN101052400A |
| 公开(公告)日 | 2007.10.10 |
| 申请(专利)号 | CN200580037615.0 |
| 申请日期 | 2005.10.28 |
| 专利名称 | 吡啶化合物在制备用于治疗皮肤损伤的药物中的应用 |
| 主分类号 | A61K31/444(2006.01)I |
| 分类号 | A61K31/444(2006.01)I;A61K31/4418(2006.01)I;A61K31/4709(2006.01)I;A61K31/4725(2006.01)I;A61K31/502(2006.01)I;A61K31/506(2006.01)I;A61K31/517(2006.01)I;A61K31/5377(2006.01)I;A61K31/5415(2006.01)I;A61P3/10(2006.01)I;A61P17/00(2006.01)I;A61P17/02(2006.01)I;A6 |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2004.10.29 JP 315553/2004 |
| 申请(专利权)人 | 田边制药株式会社 |
| 发明(设计)人 | 高木保;直塚敦子 |
| 地址 | 日本大阪府 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2005-10-28 PCT/JP2005/020241 |
| 进入国家日期 | 2007.04.29 |
| 专利代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 刘 健;李连涛 |
| 国省代码 | 日本;JP |
| 主权项 | 式[I]的吡啶化合物或其可药用盐在制备用于治疗皮肤损伤的药物中的应用： 其中R是具有下式的取代的吡啶基： R0是C1-6烷氧基-C1-6烷基，R1和R2是相同或不同的，并且是C1-6烷氧基，X是式＝N-的基团或下式所示基团： 环A是任选具有取代基的饱和或不饱和10元含氮杂二环基，并且虚线是指存在或不存在双键。 |
| 摘要 | 本发明涉及式[I]的吡啶化合物或其可药用盐在制备用于治疗皮肤损伤的药物中的应用，其中R是具有下式的取代的吡啶基，R0是C1-6烷氧基-C1-6烷基，R1和R2是相同或不同的，并且是C1-6烷氧基，X是式＝N-的基团或上式所示基团，环A是任选具有取代基的饱和或不饱和10元含氮杂二环基，并且虚线是指存在或不存在双键。 |
| 国际公布 | 2006-05-04 WO2006/046774 英 |
