| 公开(公告)号 | CN1980912A |
| 公开(公告)日 | 2007.06.13 |
| 申请(专利)号 | CN200580022209.7 |
| 申请日期 | 2005.07.01 |
| 专利名称 | 吡唑衍生物 |
| 主分类号 | C07D401/14(2006.01)I |
| 分类号 | C07D401/14(2006.01)I;C07D417/14(2006.01)I;A61K31/4545(2006.01)I;A61K31/496(2006.01)I;A61K31/497(2006.01)I;A61K31/501(2006.01)I;A61K31/5377(2006.01)I;A61K31/5513(2006.01)I;A61P3/10(2006.01)I;A61P7/02(2006.01)I;A61P9/10(2006.01)I;A61P9/14(2006.01)I;A61P13/1 |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2004.7.1 JP 195497/2004 |
| 申请(专利权)人 | 第一制药株式会社 |
| 发明(设计)人 | 金谷直明;石山崇;武藤亮;渡边俊之;落合雄一 |
| 地址 | 日本东京 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2005-07-01 PCT/JP2005/012176 |
| 进入国家日期 | 2006.12.30 |
| 专利代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 |
| 代理人 | 范 征 |
| 国省代码 | 日本;JP |
| 主权项 | 通式(I)： 表示的化合物、其盐或其溶剂合物， 式中，Ar1表示可具有1～3个取代基的苯基或无取代的5或6元芳香族杂环基，Ar2表示(i)无取代的苯基，(ii)被具有选自可被取代的氨基甲酰基、可被取代的氨基、羟基、低级烷氧基及卤素原子的1～3个基团或原子的低级烷基取代的苯基，或(iii)被选自可被取代的低级烷基、低级炔基、低级烷酰基、可被取代的氨基甲酰基、氰基、可被取代的氨基、羟基、可被取代的低级烷氧基及卤素原子的1～3个基团或原子取代的5或6元芳香族杂环基，X为由通式(II)： 表示的基团，式中的环状结构表示除了上式中记载的氮原子以外还可具有选自氮原子、氧原子及硫原子的1个杂原子作为构成原子的4～7元杂环基，该4～7元杂环基可被选自可被取代的低级烷基、可被取代的亚烷基、可被取代的氨基甲酰基、可被取代的氨基、羟基、低级烷氧基、氧代基、低级烷酰基、低级烷基磺酰基及卤素原子的1～4个基团或原子取代。 |
| 摘要 | 通式(I)：表示的化合物、其盐或其溶剂合物及医药品，式中，Ar1表示可具有1～3个取代基的苯基或无取代的5或6元芳香族杂环基，Ar2表示(i)无取代的苯基，(ii)被具有选自氨基甲酰基、氨基、羟基、低级烷氧基及卤素原子的1～3个基团或原子的低级烷基取代的苯基，或(iii)被选自低级烷基、低级炔基、低级烷酰基、氨基甲酰基、氰基、氨基、羟基、低级烷氧基及卤素原子的1～3个基团或原子取代的5或6元含氮芳香族杂环基，X为由通式(II)：表示的基团，式中的环状结构表示除了上式中记载的氮原子以外还可具有选自氮原子、氧原子及硫原子的1个杂原子作为构成原子的4～7元杂环基，该4～7元杂环基可被选自低级烷基、氨基甲酰基、氨基、羟基、低级烷氧基、氧代基、低级烷酰基、低级烷基磺酰基及卤素原子的1～4个基团或原子取代。 |
| 国际公布 | 2006-01-12 WO2006/004027 日 |
