| 公开(公告)号 | CN1720239A |
| 公开(公告)日 | 2006.01.11 |
| 申请(专利)号 | CN03825789.0 |
| 申请日期 | 2003.07.28 |
| 专利名称 | 不含1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体的制备方法以及唑尼沙胺高纯晶体 |
| 主分类号 | C07D261/20(2006.01)I |
| 分类号 | C07D261/20(2006.01)I;A61K31/423(2006.01)I;A61P25/08(2006.01)I |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2003.1.13 US 10/340,601 |
| 申请(专利权)人 | 大日本制药株式会社 |
| 发明(设计)人 | 上野良一;木村安次郎 |
| 地址 | 日本大阪府 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2003-07-28 PCT/JP2003/009530 |
| 进入国家日期 | 2005.07.11 |
| 专利代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 |
| 代理人 | 丁香兰 |
| 国省代码 | 日本;JP |
| 主权项 | 一种唑尼沙胺晶体的制备方法，所制得的唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的残留1，2-二氯乙烷，该方法包括：将含水的C2-4醇加入到包含多于5ppm的残留1，2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体中；通过共沸蒸馏除去所述1，2-二氯乙烷以获得残余混合物；随后收集从该残余混合物中析出的唑尼沙胺晶体，所收集的唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的1，2-二氯乙烷。 |
| 摘要 | 本发明提供了一种制备唑尼沙胺晶体的方法，该唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的残留1，2-二氯乙烷，即通过将含水的C2-4的醇加入包含多于5ppm的残留1，2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体中，通过共沸蒸馏除去所述1，2-二氯乙烷，随后收集从该残余混合物中析出的晶体。本发明还提供了可以用作镇癫痫剂的包含至多5ppm的残留1，2-二氯乙烷的高纯唑尼沙胺晶体。 |
| 国际公布 | 2004-07-29 WO2004/063174 英 |
