| 公开(公告)号 | CN1204128C |
| 公开(公告)日 | 2005.06.01 |
| 申请(专利)号 | CN00815009.5 |
| 申请日期 | 2000.09.14 |
| 专利名称 | 制备噁唑衍生物的方法 |
| 主分类号 | C07D263/38 |
| 分类号 | C07D263/38;C07D263/48;C07D413/04 |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 1999.9.16 JP 262470/1999;2000.3.17 JP 81823/2000 |
| 申请(专利权)人 | 武田药品工业株式会社 |
| 发明(设计)人 | 多和田纮之;大桥宪彦;池内元树 |
| 地址 | 日本大阪府 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | PCT/JP2000/006302 2000.9.14 |
| 进入国家日期 | 2002.04.27 |
| 专利代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 |
| 代理人 | 黄益芬;巫肖南 |
| 国省代码 | 日本;JP |
| 主权项 | 生产下式化合物或其盐的方法：其中R1和R2各自是氢原子，非强制性取代的烃基或非强制性取代的杂环基，R3可以是-CN，-COOR7，R7是氢原子或非强制性取代的烃基，-COR8，其中R8是氢原子或非强制性取代的烃基或非强制性取代的杂环基，以及非强制性酰胺化的羧基，硝基，由-(SOm)R15代表的基团，其中m是1或2，而R15是非强制性取代的烃基，由-PR11R12代表的基团，其中R11和R12各自是非强制性取代的烃基，或由-(PO)(OR13)(OR14)代表的基团，其中R13和R14各自是氢原子或非强制性取代的烃基，R4，R5和R6各自是氢原子或非强制性取代的烃基，该方法包括下式化合物或其盐其中式中的符号如上定义，与下式化合物或其盐在酸或碱存在下反应其中式中的符号如上定义。 |
| 摘要 | 本发明涉及一种在噁唑的5-位形成碳-碳键的工业上有效的方法，即生产通式(III)化合物或其盐的方法(式中R1和R2各自是氢原子、非强制性取代的烃基或非强制性取代的杂环基，R3是吸电子基团，R4，R5和R6各自是氢原子或非强制性取代的烃基)，该方法包括式(I)化合物或其盐(式中的符号如上定义)，与式(II)化合物或其盐(式中的符号如上定义)在酸或碱存在下反应。∴ |
| 国际公布 | WO2001/019806 日 2001.3.22 |
