| 公开(公告)号 | CN1863784A |
| 公开(公告)日 | 2006.11.15 |
| 申请(专利)号 | CN200480029151.4 |
| 申请日期 | 2004.08.24 |
| 专利名称 | 2-萘基亚氨基-1,3-噻嗪衍生物 |
| 主分类号 | C07D279/06(2006.01)I |
| 分类号 | C07D279/06(2006.01)I;C07D417/12(2006.01)I;C07D513/20(2006.01)I;A61K31/54(2006.01)I;A61P11/08(2006.01)I;A61P17/04(2006.01)I;A61P25/04(2006.01)I;A61P43/00(2006.01)I |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2003.8.26 JP 300952/2003 |
| 申请(专利权)人 | 盐野义制药株式会社 |
| 发明(设计)人 | 甲斐浩幸;森冈靖英;小池胜己 |
| 地址 | 日本大阪府大阪市 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2004-08-24 PCT/JP2004/012086 |
| 进入国家日期 | 2006.04.05 |
| 专利代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 温宏艳;王景朝 |
| 国省代码 | 日本;JP |
| 主权项 | 式(I)化合物、其可药用盐或溶剂化物： 其中R2和R3相同或不同，并且各自为C2-C4烷基、C2-C4烯基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、任选取代的氨基C1-C4烷基或C3-C6环烷基C1-C4烷基；或 R2和R3与相邻碳原子合起来形成任选取代的5至8元非芳族碳环或任选取代的5至8元非芳族杂环； R4为C1-C6烷基、羟基C1-C6烷基、任选取代的氨基C1-C6烷基或C1-C6烷氧基C1-C6烷基； X为氧原子或硫原子； A为下式基团：或 其中R1相同或不同，为烷基、烷氧基、烷硫基、任选取代的氨基、任选取代的芳基、任选取代的芳氧基、任选取代的芳烷基氧基、环烷基、卤素原子、羟基、硝基、卤代烷基、卤代烷氧基、任选取代的氨甲酰基、羧基、烷氧基羰基、烷基亚磺酰基、烷基磺酰基、烷氧基烷基、烷硫基烷基、任选取代的氨基烷基、烷氧基亚氨基烷基、烷氧基烷氧基、烷硫基烷氧基、烷氧基羰基烷氧基、羧基烷氧基、烷基磺酰基氧基、任选取代的杂芳基、任选取代的非芳族杂环基团、氰基、氰基烷氧基或下式基团：-C(＝O)-RH，其中RH为氢原子、烷基、任选取代的芳基或任选取代的非芳族杂环基团； W为可包含任选取代的杂原子的C2-C6亚烷基或可包含任选取代的杂原子的C2-C4亚烯基； n为0至7的整数。 |
| 摘要 | 式(I)化合物、其可药用盐或溶剂化物，其中R2和R3各自相同或不同，为C2-C4烷基等；或R2和R3与相邻碳原子合起来形成5至8元非芳族碳环；R4为C1-C6烷基等；X为氧原子或硫原子；A为下式基团，其中R1相同或不同，为烷基等等；W为可包含任选取代的杂原子的C2-C6亚烷基等等；n为0至7的整数。 |
| 国际公布 | 2005-03-24 WO2005/026138 日 |
