| 公开(公告)号 | CN1777590A |
| 公开(公告)日 | 2006.05.24 |
| 申请(专利)号 | CN200480010488.0 |
| 申请日期 | 2004.07.30 |
| 专利名称 | 吲唑衍生物 |
| 主分类号 | C07D231/56(2006.01)I |
| 分类号 | C07D231/56(2006.01)I;C07D401/12(2006.01)I;C07D401/14(2006.01)I;C07D413/12(2006.01)I;C07D413/14(2006.01)I;C07D491/113(2006.01)I;A61K31/416(2006.01)I;A61K31/438(2006.01)I;A61K31/496(2006.01)I;A61K31/5377(2006.01)I;A61P35/02(2006.01)I |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2003.7.30 JP 203508/2003 |
| 申请(专利权)人 | 协和发酵工业株式会社 |
| 发明(设计)人 | 太田义久;金井文彦;奈良真二;神田裕;梅原浩司;盐津行正;直江知树;清井仁;川岛惠子;安藤宏美;深山干 |
| 地址 | 日本东京 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2004-07-30 PCT/JP2004/011287 |
| 进入国家日期 | 2005.10.19 |
| 专利代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
| 代理人 | 王 健 |
| 国省代码 | 日本;JP |
| 主权项 | 以式(I) [式中R1表示CONR1aR1b(式中R1a及R1b相同或不同，表示氢原子、取代或非取代的低级烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的芳烷基或取代或非取代的杂环基，或R1a及R1b和邻接的氮原子一起形成取代或非取代的杂环基)或NR1cR1d(式中，R1c表示取代或非取代的低级烷基磺酰基或取代或非取代的芳基磺酰基，R1d表示氢原子或取代或非取代的低级烷基)， R2表示氢原子、卤素、氰基、硝基、羟基、羧基、低级烷氧羰基、取代或非取代的低级烷基、取代或非取代的低级烷氧基、取代或非取代的低级烷酰基、CONR2aR2b(式中，R2a及R2b相同或不同，表示氢原子、取代或非取代的低级烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的芳烷基或取代或非取代的杂环基，或R2a及R2b和邻接的氮原子一起形成取代或非取代的杂环基)或NR2cR2d(式中，R2c及R2d表示相同或不同，表示氢原子、取代或非取代的低级烷基、取代或非取代的低级烷酰基、取代或非取代的芳酰基、取代或非取代的杂芳酰基、取代或非取代的芳烷基、取代或非取代的低级烷基磺酰基或取代或非取代的芳基磺酰基)]所表示的吲唑衍生物或其药理学所容许的盐。 |
| 摘要 | 本发明提供用式(I)，[式中R1表示CONR1aR1b(式中R1a及R1b相同或不同，表示氢原子，取代或非取代的低级烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的芳烷基或取代或非取代的杂环基，或R1a及R1b和邻接的氮原子一起形成取代或非取代的杂环基)等，R2表示氢原子、CONR2aR2b(式中，R2a及R2b相同或不同，表示氢原子、取代或非取代的低级烷基、取代或非取代的芳基、取代或非取代的芳烷基或取代或非取代的杂环基，或R2a及R2b和邻接的氮原子一起形成取代或非取代的杂环基)、NR2cR2d(式中，R2c及R2d表示相同或不同，表示氢原子，取代或非取代的低级烷基、取代或非取代的低级烷酰基、取代或非取代的芳酰基、取代或非取代的杂芳酰基、取代或非取代的芳烷基、取代或非取代的低级烷基磺酰或取代或非取代的芳基磺酰)]所表示的吲唑衍生物或其药理学所容许的盐。 |
| 国际公布 | 2005-02-10 WO2005/012257 日 |
