| 公开(公告)号 | CN1922184A |
| 公开(公告)日 | 2007.02.28 |
| 申请(专利)号 | CN200580005426.5 |
| 申请日期 | 2005.02.17 |
| 专利名称 | 7H-吡咯并嘧啶衍生物 |
| 主分类号 | C07D487/04(2006.01)I |
| 分类号 | C07D487/04(2006.01)I;A61K31/519(2006.01)I;A61P35/00(2006.01)I |
| 分案原申请号 | |
| 优先权 | 2004.2.18 GB 0403606.7 |
| 申请(专利权)人 | 诺瓦提斯公司 |
| 发明(设计)人 | G·卡拉瓦蒂;A·沃佩尔 |
| 地址 | 瑞士巴塞尔 |
| 颁证日 | |
| 国际申请 | 2005-02-17 PCT/EP2005/001635 |
| 进入国家日期 | 2006.08.18 |
| 专利代理机构 | 北京市中咨律师事务所 |
| 代理人 | 黄革生;林柏楠 |
| 国省代码 | 瑞士;CH |
| 主权项 | 式I化合物或其药学上可接受的盐、酯： 其中： R1和R2独立地为：氢、卤素；或低级烷基、杂环、氢基或环烷基，它们均可以未被取代或被取代； 或R1和R2可以彼此连接形成未被取代或取代的N-杂环； Y为(R3)n-X-或A(R3)(R3)C-； 其中X为低级烷基、氨基、酰氨基或羰基； A为羟基、氨基、卤素或低级烷基； R3为低级烷基、低级烷氧基、羰基、氨基、羟基、杂环或杂芳基，它们均可以未被取代或被取代； n为1或2； R3上的取代基为一个或多个独立地选自卤素、低级烷基、低级烷氧基、氨基、羟基和杂环的取代基；其中，除卤素外，它们均未被取代或被一个或多个独立地选自卤素、羟基、低级烷氧基、氨基、低级烷基和杂环的取代基取代；其中，除卤素外，它们均未被取代或被一个或多个独立地选自卤素、低级烷基、低级烷氧基、羟基和低级烷氧基的取代基取代； R1和R2上的取代基为一个或多个独立地选自卤素、羟基、低级烷基、低级烷氧基、氨基、环烷基、杂环和杂芳基的取代基；其中，除卤素外，它们均未被取代或被一个或多个独立地选自卤素、羟基、低级烷基、低级烷氧基、氨基、杂环和杂芳基的取代基取代；其中，除卤素外，它们均未被取代或被一个或多个独立地选自卤素、羟基、低级烷基和氨基的取代基取代。 |
| 摘要 | 本发明涉及式(I)的7H-吡咯并[2，3-d]嘧啶衍生物，其中符号和取代基如说明书中所定义，以及其制备方法，包含这类衍生物的药物组合物以及这类衍生物单独或与一种或多种其它药学活性化合物组合在制备用于治疗尤其是增殖性疾病如肿瘤的药物组合物中的用途。 |
| 国际公布 | 2005-08-25 WO2005/077951 英 |
